Vorbereitung Ihrer Daten
Software oder Datenformate
Es gibt eine Reihe an Software-Paketen für die Erstellung Ihres Designs. Die zwei am häufigsten genutzten Daten-Formate sind GDSII and OASIS.
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Definition der Zeichnungsbereiche
Möchten Sie mehr über Zeichnungsbereiche erfahren? Dieser Abschnitt enthält Informationen darüber, wo Sie kritische und wo Sie weniger kritischen Bauelemente positionieren sollten.
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Wählen Sie ihr Design- oder Fracture-Grid
Das Grid ist ein sehr wichtiger Punkt bei der Erstellung Ihrer Fotomaske. Dieser Abschnitt informiert Sie über alles was Sie wissen müssen zum Thema Layout-Systeme.
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Definition des Belichtungsfeld
Bei der Gestaltung des Maskenlayout ist eine der häufigsten Fehlerquellen die Festlegung der Polarität. Dabei wird definiert, welche Bereiche des Entwurfes auf der Maske transparent und welche gedeckt sind.
Planen Sie ihr Alignment-System
Jede Belichtungsanlage hat eine eigenes optisches Ausrichtungssystem, um die Vorderseite der Maske zum Wafer perfekt zu positionieren.
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