Entwurfs- und Zerlegungsgitter

Wählen Sie Ihr Entwurfs- oder Zerlegungs-Grid

1920x1200-PRODUCT36Das Grid(Raster) ist ein sehr wichtiger Punkt beim entwerfen einer Fotomaske und unsere Profis im Kundensupport helfen Ihnen dabei. Die meisten Layout-Systeme arbeiten mit einem Raster- bzw. Grid-Konzept an dem sich alle Strukturelemente orientieren. Prinzipiell handelt es sich um ein Gitter was einem Koordinatensystem gleich kommt, in das alle Eckpunkte, Kanten und Polygone des Entwurfes passen müssen. Sehr wichtig ist dabei den Unterschied zwischen Design- und Fracture-Grid zu kennen.

Das Entwurfsgitter sollte klein genug sein die Positionen, Linienbreiten und nötigen Freiräume, Ihres Designs, erreichen zu können. Jedoch sollte es nicht kleiner als wirklich notwendig sein, denn je kleiner das Gitter, desto länger die Schreibzeit der Fotomaske. Und je länger die Schreibzeit ist, desto höher sind auch die Kosten. Typische Adresse Einheiten für Maskenlithographie-Anlagen sind 5 nm, 10 nm, 20 nm, 25 nm, 50 nm, 100 nm, 125 nm, 250 nm und 500 nm.

Unless you submit “write ready data”, we’ll need to translate your design to the data format required by the mask exposure tools through a process referred to as “fracturing”.  If your design grid is different than the fracture grid (or address unit), there will be grid snapping during the translation process. Ideally, you want your design grid to match the fracture grid but, rarely does this happen.  Therefore, choosing an address unit that minimizes grid snapping can be important to retaining the viability of your design.

Auch wenn Sie “schreibfertige Daten” senden, um Ihr Design in ein Format umzuwandeln was die Belichtungsanlagen kennen, müssen wir ein Prozess der als “Fracturing” bezeichnet erforderliche Datenformat zu übersetzen. Wenn Ihr Entwurfsbereich ist anders als die Bruchgitter (oder Adresseinheit), gibt es Gitter schnappen während des Übersetzungsprozesses zu sein. Idealerweise sollten Sie Ihr Design Raster, um die Bruchgitter passen, aber, nur selten kommt es dazu. Daher die Wahl eines Adresseneinheit, die Gitterschnapp minimiert ist wichtig, Beibehaltung der Lebensfähigkeit von Ihrem Design sein.

Smaller grids should be used for features that require finer resolution on the mask. Waveguide and some photonic features where the “smoothness” of a curved feature is an important parameter in the functionality of these types of devices.  Features such as circles, curves, and rings all require more trapezoids to replicate in the mask data, which again, is a function of write time and cost. If your device can use octagons rather than perfect circles, you should consider the option.

If you have any questions we will be happy to advise and help during your mask design layout phase, just get in touch.