Weitere Anwendungsmöglichkeiten von Fotomasken
Als in den 1960er und 70er Jahren das erste mal Fotomasken zur Herstellung von integrierten Schaltungen verwendet wurden, hatten wir kaum eine Vorstellung davon, wie sich die Halbleiterindustrie in den nächsten 40 Jahren entwickeln würde. Es war nicht daran zu denken, dass wir später mal routinemäßig unter Verwendung von optischer Lithographie, Strukturen erzeugen die kleiner sind als die Wellenlänge des verwendeten Lichtes.
Heute ist die Mikrolithographie mit Hilfe von Fotomasken ein normaler Bestandteil der Herstellung von photonischen und optischen Bauelementen. Aufgrund der hohen Prozessfähigkeit wird die Maskenlithographie auch zur Herstellung von optischen Gittern und Rastern für Bewegungs-Control-Systeme oder um Messnormale herzustellen eingesetzt.
Die Prozesse und Anwendungen unserer Kunden werden laufend verbessert und weiterentwickelt. Deshalb sind wir stets und ständig auf der Suche nach Wegen und Möglichkeiten, die stetig steigenden Anforderungen an Fotomaske zu erfüllen.
