Wie wird eine Fotomaske hergestellt?

Herstellung einer Fotomaske

1920x1200-PRODUCT18Um eine Fotomaske herzustellen werden die Strukturen des späteren Devices mittels Elektronen- oder Laserstrahl in den lichtempfindlichen Lack(Resist) eines mit Chrom beschichteten Glassubstrat belichtet.

Um die gewünschten Strukturen in die Chromschicht zu übertragen wird das bei der Belichtung entstandene latente Bild im Resist heraus entwickelt. Im darauf folgendem Ätzprozess dienen die Resiststrukturen als schützende Maske und ermöglichen so, die Strukturen in die darunterliegende Chromschicht zu übertragen. Abschließend wird der Resist von der Oberfläche der Fotomaske entfernt.

Um die Einhaltung der von unseren Kunden gewünschte Spezifikation zu garantieren, werden die Strukturbreiten(Critical Dimension) und die Position(Registration) der Strukturen auf der Maske gemessen. Um die Funktionsfähigkeit der späteren Bauelemente sicher zu stellen werden die Strukturen der Maske auf Defekte inspiziert. Werden bei der der Inspektion kritische Defekte gefunden, können diese im Anschluss häufig repariert werden.

Nach der Endreinigung und dem eventuellen aufbringen eines schützenden Pellicle ist der Herstellungsprozess der Fotomaske abgeschlossen.