So werden Fotomasken eingesetzt
Fotomasken haben eine Vielzahl von Anwendungsmöglichkeiten, die Hauptanwendung finden sie in den Mikrolithographie Prozessen unserer Kunden.
Nach der Konstruktion und vor der Herstellung von Integrierten Schaltkreisen, photonische oder MEMS Devices, werden die Fotomasken produziert. Im späteren Herstellungsprozess unserer Kunden, dienen dann die binären Strukturen unsere Fotomasken als strukturgebende, exakte und präzise Nachbildung des ursprünglichen Designs.
Die binären Strukturen moduliert die Intensität des Lichts in den Lithographietools, um den Entwurf auf den Silizium-Wafer oder ein anderes Substrat lithographisch zu übertragen.
