Wir produzieren verschiedene Typen von Fotomasken
Die Prozesse und Lithographieanlagen unserer Kunden sind oft sehr unterschiedlich. Und genauso unterschiedlich sind auch die physikalische und technische Einflussfaktoren die die Auswahl der richtigen Fotomaske bestimmen: Der Skalierungs- bzw. Verkleinerungsfaktor(1-fach bis 5-facher), das eingesetzte Belichtungsverfahren(Kontaktbelichtung, Proximity-Belichtung oder Projektionsstepper mit Spiegeloptik), die Wellenlänge des eingesetzten Lichtes (UV bis Deep-UV).
Fotomasken Kopien
Wenn unsere Kunden mit der hart Kontaktbelichtung arbeiten, sind die Fotomasken meist nicht besonders lang einsetzbar. Denn Aufgrund des direkten Kontaktes von Maske und Wafer ist die Maskenoberfläche hohen mechanischen Belastungen ausgesetzt. 1xMasken sind dann meist nicht die optimale Lösung. Wenn es die geforderte Spezifikation und Strukturbreite zulässt, ist eine Kopie die bessere und kostengünstigere Alternative. Und ist das entsprechend Master oder Sub-Master bei uns eingelagert, können wir bei Beschädigung der eingesetzten Kopie immer schnell für Ersatz sorgen. Kopien werden in der Regel aus Soda Lime(SL) Substraten hergestellt.
1x Masken
Wenn unsere Kunden Proximity- oder Projektions-Belichtung nutzen um das Design auf ihrer Substrate zu übertragen, entstehen nur geringe oder keine Schäden an den Fotomasken. Wie die hart Kontaktbelichtung verwenden diese Systeme typischerweise Breitband- oder near-UV-Licht (300-450 nm), um die Wafer oder Substrate zu belichten. Wir stellen 1x Masken unter Verwendung unserer Masken Direktschreiber her und obwohl 1x Masken den gleichen Skalefaktor wie das fertige Bauelement haben, können durch den Einsatz von 1x Masken deutlich bessere Spezifikationen und eine höhere Strukturgenauigkeit erreicht werden. 1x Masken können entweder aus Soda Lime Glas(SL) oder aus Quarzglas(QZ) Substraten hergestellt werden.
Reticles
Wenn unsere Kunden mit optischer Projektionsbelichtung wie bei sogenannten Steppern oder Scannern mit Verkleinerungsfaktor von 2,5:1 oder 4:1 oder 5:1 arbeiten, dann spricht man nicht von einer Fotomaske sondern von einem Reticle. Stepper nutzen Wellenlängen von i-line (365nm) bis deep-UV (248nm oder 193nm). Verkleinernden Stepper or Scanner Reticle werden eingesetzt, um bei Lithographieprozessen die bestmöglichsten Ergebnisse zu erzielen. In einigen der fortschrittlichsten Halbeiterfertigungen werden Strukturen erzeugt, die kleiner als die Wellenlänge des eingesetzten Lichtes ist. Reticle werden typischerweise aus Quarzglas(QZ) Substraten hergestellt.
