Unser Service für Wiedereinsatzreinigung
Die Aufrechterhaltung der Maskenqualität ist eine Herausforderung und obwohl Fotomasken robust sind, sind sie nicht unzerstörbar. Bei den von unseren Kunden angewendeten Lithografieprozessen muss die eingesetzte Fotomaske ein Mindestmaß an Oberflächenreinheit aufweisen. Auf diese Weise wird sichergestellt, dass die Bauelemente ohne Mängel oder Beeinträchtigung von Leistung und Funktion hergestellt werden können.
Die Fotomaskenreinigung ist ein wesentlicher Bestandteil unserer Produktionsprozesse. Dank langjähriger Erfahrung sind wir in der Lage Kontaminationen und Defekte von genutzten Masken zu entfernen und die Wiederverwendung zu ermöglichen.
Wie machen wir das?
Unsere Reinigungsprozesse sind eine Kombination aus chemischen und physikalischen Verfahren. Dabei verwenden wir eine Mischung aus Schwefelsäure und Wasserstoffperoxid um Fotolack und organischen Verunreinigungen zu entfernen.
An den Standorten in Großbritannien und den USA nutzen wir, spezielle für diesen Zweck entwickelte automatische Masken Reinigungsanlagen wie HMR900 oder ASC500 um die Masken einzeln zu reinigen. An unserem Standort in Jena sind wir in der Lage mehrere Masken bis 9″ gleichzeitig in Carrier zu reinigen.
Wenn Sie mehr über unsere Service für Masken Wiedereinsatzreinigung erfahren möchten dann fragen Sie uns einfach.
