Reticle für High-End-Prozesse
Wir machen: 1x, 2x, 2.5x, 4x, 5x, 10x
Reticle sind ganz spezielle high-end Fotomasken die verschiedenste Vorteile bieten. Sie können eine oder mehrere Design-Ebenen enthalten. Diese werden dann in der Wafer–Lithographie an sogenannten “Stepern” eingesetzt. Bei diesen Systemen werden die Strukturen, die sich auf dem Reticle befindet, mehrfach per Projektionsbelichtung bzw. verkleinernder Projektionsbelichtung auf den Wafer übertragen. Dieses Verfahren nennt man “Step and Repeat” Verfahren. In den einzelnen Belichtungsschritten werden die gesamte Strukturen der Maske auf einen Teilbereich des Wafers übertragen. Dieser Vorgang wird wiederholt bis der gesamte Wafer belichtet ist. Die Oberflächen eines Reticle werden in den empfindlichen Bereichen der Strukturen meist mit Hilfe eins Pellicle vor Kontaminationen geschützt.
Compugraphics besitzt langjährige Erfahrung bei der Herstellung von Reticlen für alle großen Wafer-Reticle-Lithographie-Systeme wie ASML, Nikon, Canon oder Ultratech.
Typischerweise ist das auf den Wafer übertragene Bild des Reticle durch eine Linsenoptik um einen Faktor von 1X, 2X, 2,5X, 4X, 5X oder 10X “reduziert” bzw. “verkleinert”. Das bedeutet, dass alle Masken-Fehler-Faktoren(MEF) z.B.: Linienbreite, mögliche Positionsfehler oder mögliche Strukturdefekte können ebenfalls durch die Projektion reduziert werden. Außerdem können auf dem Wafer kleinere Linienbreiten als auf dem ursprünglichen Reticle erreicht werden.
Wafer–Reticle–Lithographie-Systeme verwenden in der Regel Licht mit sehr geringen Wellenlängen. Die gebräuchlichsten Verfahren sind I-Linie (365 nm), KrF DUV (248 nm) und ArF DUV (193 nm). Mit der Reticle–Enhancement–Techniques (RET), wie beispielsweise OPC und PSM kann man kleinere Strukturen, als die Wellenlänge des verwendeten Lichts erzeugen (auch als Sub-Wellenlängen-Lithographie bekannt, siehe OPC and Phase Shift Masks).
Pellicle aufbringen
Um die Oberfläche der Stepper-Reticle vor Partikeln zu schützen, ist es in der Praxis Standard ein “Pellicle” aufzubringen. Pellicle gibt es in allen möglichen Formen und Abmessungen je nach Hersteller, System oder Modell des eingesetzten Lithographie-Tool.
Glücklicher hat Compugraphics einen großen Bestand der am häufigsten eingesetzten Pellicle Typen, fragen Sie einfach danach.
6″ Reticle mit Pellicle:
Wussten Sie schon?
Compugraphics war der erste Maskenhersteller in Europa. Seit dem haben wir weit über 250,000 Reticle produziert.
