Was ist eine Fotomaske?
Fotomasken spielen eine kritische Rolle in den Mikrolithographieprozessen unsere Kunden und wird für die Herstellung von integrierten Schaltungen (ICs), photonischer Bauelementen und mikroelektromechanischer Systeme (MEMS) verwendet. Eine Fotomaske besteht aus einem Quarz (QZ) oder Glas (SL) Substrat mit einer lichtundurchlässigen Schicht aus Chrom, in die ein genaues Abbild der später im Bauelement zu erzeugenden Strukturen geätzt wird.
Neben einem hohen Maß an Strukturgenauigkeit muss eine Fotomaske auch andere Spezifikationen wie exakt definierte Strukturbreiten(critical dimension, kurz CD), Positionsgenauigkeit(registration) und Defektspezifikationen genau einhalten.
Die Begriffe “Master“, “Sub-Master” und “Kopie Masken” werden in der Regel verwendet um 1xFotomasken genauer zu Bezeichnen. Der Begriff “Reticle” beziehen sich jedoch auf 2.5x, 4x und 5x Stepper oder Scanner Fotomasken. Für ein fertiges Halbleiterbauelement können 5 bis 40 einzelne Fotomasken zu Einsatz kommen. Eine Maske für jeden strukturierenden Lithographie Schritt im Herstellungsprozess.
